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Ieee Transactions On Plasma Science

评价信息:

影响因子:1.3

年发文量:419

IEEE Transactions On Plasma Science SCIE

Ieee Transactions On Plasma Science

《IEEE Transactions On Plasma Science》(Ieee Transactions On Plasma Science)是一本以物理:流体与等离子体-物理综合研究为特色的国际期刊。该刊由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商创刊于1973年,刊期Bimonthly。该刊已被国际重要权威数据库SCIE收录。期刊聚焦物理:流体与等离子体-物理领域的重点研究和前沿进展,及时刊载和报道该领域的研究成果,致力于成为该领域同行进行快速学术交流的信息窗口与平台。该刊2023年影响因子为1.3。CiteScore指数值为3。

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期刊简介预计审稿时间: 约3.7个月

The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.

范围涵盖等离子体科学理论和应用的各个方面。它包括以下领域:磁流体力学;热电子学和等离子体二极管;基本等离子体现象;气态电子学;微波/等离子体相互作用;电子、离子和等离子体源;空间等离子体;强电子和离子束;激光-等离子体相互作用;等离子体诊断;等离子体化学和加工;固态等离子体;等离子体加热;用于受控聚变研究的等离子体;高能量密度等离子体;等离子体物理的工业/商业应用;等离子体波和不稳定性;以及高功率微波和亚毫米波的产生。

《Ieee Transactions On Plasma Science》(IEEE Transactions On Plasma Science)编辑部通讯方式为IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。如果您需要协助投稿或润稿服务,您可以咨询我们的客服老师。我们专注于期刊投稿服务十年,熟悉发表政策,可为您提供一对一投稿指导,避免您在投稿时频繁碰壁,节省您的宝贵时间,有效提升发表机率,确保SCI检索(检索不了全额退款)。我们视信誉为生命,多方面确保文章安全保密,在任何情况下都不会泄露您的个人信息或稿件内容。

中科院分区

2023年12月升级版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 4区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区

2022年12月升级版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 3区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区

2021年12月旧的升级版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 3区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区

2021年12月基础版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理 4区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区

2021年12月升级版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 3区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区

2020年12月旧的升级版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
物理与天体物理 3区 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 4区
名词解释:

基础版:即2019年12月17日,正式发布的《2019年中国科学院文献情报中心期刊分区表》;将JCR中所有期刊分为13个大类,期刊范围只有SCI期刊。

升级版:即2020年1月13日,正式发布的《2019年中国科学院文献情报中心期刊分区表升级版(试行)》,升级版采用了改进后的指标方法体系对基础版的延续和改进,影响因子不再是分区的唯一或者决定性因素,也没有了分区的IF阈值期刊由基础版的13个学科扩展至18个,科研评价将更加明确。期刊范围有SCI期刊、SSCI期刊。从2022年开始,分区表将只发布升级版结果,不再有基础版和升级版之分,基础版和升级版(试行)将过渡共存三年时间。

JCR分区(2023-2024年最新版)

JCR分区等级:Q3

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 29 / 40

28.7%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q3 30 / 40

26.25%

Gold OA文章占比 研究类文章占比 文章自引率
3.86% 99.05% 0.2
开源占比 出版国人文章占比 OA被引用占比
0.07... -- 0.00...

名词解释:JCR分区在学术期刊评价、科研成果展示、科研方向引导以及学术交流与合作等方面都具有重要的价值。通过对期刊影响因子的精确计算和细致划分,JCR分区能够清晰地反映出不同期刊在同一学科领域内的相对位置,从而帮助科研人员准确识别出高质量的学术期刊。

CiteScore 指数(2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 指数
3 0.417 0.861
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Physics and Astronomy 小类:Nuclear and High Energy Physics Q2 42 / 87

52%

大类:Physics and Astronomy 小类:Condensed Matter Physics Q3 247 / 434

43%

名词解释:CiteScore是基于Scopus数据库的全新期刊评价体系。CiteScore 2021 的计算方式是期刊最近4年(含计算年度)的被引次数除以该期刊近四年发表的文献数。CiteScore基于全球最广泛的摘要和引文数据库Scopus,适用于所有连续出版物,而不仅仅是期刊。目前CiteScore 收录了超过 26000 种期刊,比获得影响因子的期刊多13000种。被各界人士认为是影响因子最有力的竞争对手。

数据趋势图

历年中科院分区趋势图

历年IF值(影响因子)

历年引文指标和发文量

历年自引数据

发文数据

2019-2021年文章引用数据

文章引用名称 引用次数
Overview of the HCPB Research Activities... 12
Two-Wave Cherenkov Oscillator With Moder... 12
High-Performance Filtering Antenna Using... 11
Neutron Diagnostics in the Large Helical... 10
Characterization of a Compact, Low-Cost ... 10
A Primer on Pulsed Power and Linear Tran... 10
Preparation and Commissioning for the LH... 9
Recent Progress in the WCLL Breeding Bla... 9
Corona Discharge-Induced Rain and Snow F... 9
Bifurcation Analysis for Dust-Acoustic W... 8

2019-2021年文章被引用数据

被引用期刊名称 数量
IEEE T PLASMA SCI 2237
PHYS PLASMAS 585
J PHYS D APPL PHYS 364
PLASMA SOURCES SCI T 296
J APPL PHYS 236
AIP ADV 211
FUSION ENG DES 209
IEEE ACCESS 201
IEEE T ELECTRON DEV 180
PLASMA SCI TECHNOL 172

2019-2021年引用数据

引用期刊名称 数量
IEEE T PLASMA SCI 2237
PHYS PLASMAS 882
J PHYS D APPL PHYS 759
IEEE T MAGN 593
J APPL PHYS 583
PLASMA SOURCES SCI T 427
APPL PHYS LETT 341
PHYS REV LETT 300
REV SCI INSTRUM 278
IEEE T DIELECT EL IN 268

相关期刊

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