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评价信息:
影响因子:1.3
年发文量:419
《IEEE Transactions On Plasma Science》(Ieee Transactions On Plasma Science)是一本以物理:流体与等离子体-物理综合研究为特色的国际期刊。该刊由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商创刊于1973年,刊期Bimonthly。该刊已被国际重要权威数据库SCIE收录。期刊聚焦物理:流体与等离子体-物理领域的重点研究和前沿进展,及时刊载和报道该领域的研究成果,致力于成为该领域同行进行快速学术交流的信息窗口与平台。该刊2023年影响因子为1.3。CiteScore指数值为3。
The scope covers all aspects of the theory and application of plasma science. It includes the following areas: magnetohydrodynamics; thermionics and plasma diodes; basic plasma phenomena; gaseous electronics; microwave/plasma interaction; electron, ion, and plasma sources; space plasmas; intense electron and ion beams; laser-plasma interactions; plasma diagnostics; plasma chemistry and processing; solid-state plasmas; plasma heating; plasma for controlled fusion research; high energy density plasmas; industrial/commercial applications of plasma physics; plasma waves and instabilities; and high power microwave and submillimeter wave generation.
范围涵盖等离子体科学理论和应用的各个方面。它包括以下领域:磁流体力学;热电子学和等离子体二极管;基本等离子体现象;气态电子学;微波/等离子体相互作用;电子、离子和等离子体源;空间等离子体;强电子和离子束;激光-等离子体相互作用;等离子体诊断;等离子体化学和加工;固态等离子体;等离子体加热;用于受控聚变研究的等离子体;高能量密度等离子体;等离子体物理的工业/商业应用;等离子体波和不稳定性;以及高功率微波和亚毫米波的产生。
《Ieee Transactions On Plasma Science》(IEEE Transactions On Plasma Science)编辑部通讯方式为IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。如果您需要协助投稿或润稿服务,您可以咨询我们的客服老师。我们专注于期刊投稿服务十年,熟悉发表政策,可为您提供一对一投稿指导,避免您在投稿时频繁碰壁,节省您的宝贵时间,有效提升发表机率,确保SCI检索(检索不了全额退款)。我们视信誉为生命,多方面确保文章安全保密,在任何情况下都不会泄露您的个人信息或稿件内容。
2023年12月升级版
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 4区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 | 否 | 否 |
2022年12月升级版
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 | 否 | 否 |
2021年12月旧的升级版
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 | 否 | 否 |
2021年12月基础版
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理 | 4区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 | 否 | 否 |
2021年12月升级版
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 | 否 | 否 |
2020年12月旧的升级版
大类学科 | 分区 | 小类学科 | 分区 | Top期刊 | 综述期刊 |
物理与天体物理 | 3区 | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流体与等离子体 | 4区 | 否 | 否 |
基础版:即2019年12月17日,正式发布的《2019年中国科学院文献情报中心期刊分区表》;将JCR中所有期刊分为13个大类,期刊范围只有SCI期刊。
升级版:即2020年1月13日,正式发布的《2019年中国科学院文献情报中心期刊分区表升级版(试行)》,升级版采用了改进后的指标方法体系对基础版的延续和改进,影响因子不再是分区的唯一或者决定性因素,也没有了分区的IF阈值期刊由基础版的13个学科扩展至18个,科研评价将更加明确。期刊范围有SCI期刊、SSCI期刊。从2022年开始,分区表将只发布升级版结果,不再有基础版和升级版之分,基础版和升级版(试行)将过渡共存三年时间。
JCR分区等级:Q3
按JIF指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 29 / 40 |
28.7% |
按JCI指标学科分区 | 收录子集 | 分区 | 排名 | 百分位 |
学科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS | SCIE | Q3 | 30 / 40 |
26.25% |
Gold OA文章占比 | 研究类文章占比 | 文章自引率 |
3.86% | 99.05% | 0.2 |
开源占比 | 出版国人文章占比 | OA被引用占比 |
0.07... | -- | 0.00... |
名词解释:JCR分区在学术期刊评价、科研成果展示、科研方向引导以及学术交流与合作等方面都具有重要的价值。通过对期刊影响因子的精确计算和细致划分,JCR分区能够清晰地反映出不同期刊在同一学科领域内的相对位置,从而帮助科研人员准确识别出高质量的学术期刊。
CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指数 | ||||||||||||
3 | 0.417 | 0.861 |
|
名词解释:CiteScore是基于Scopus数据库的全新期刊评价体系。CiteScore 2021 的计算方式是期刊最近4年(含计算年度)的被引次数除以该期刊近四年发表的文献数。CiteScore基于全球最广泛的摘要和引文数据库Scopus,适用于所有连续出版物,而不仅仅是期刊。目前CiteScore 收录了超过 26000 种期刊,比获得影响因子的期刊多13000种。被各界人士认为是影响因子最有力的竞争对手。
历年中科院分区趋势图
历年IF值(影响因子)
历年引文指标和发文量
历年自引数据
2019-2021年文章引用数据
文章引用名称 | 引用次数 |
Overview of the HCPB Research Activities... | 12 |
Two-Wave Cherenkov Oscillator With Moder... | 12 |
High-Performance Filtering Antenna Using... | 11 |
Neutron Diagnostics in the Large Helical... | 10 |
Characterization of a Compact, Low-Cost ... | 10 |
A Primer on Pulsed Power and Linear Tran... | 10 |
Preparation and Commissioning for the LH... | 9 |
Recent Progress in the WCLL Breeding Bla... | 9 |
Corona Discharge-Induced Rain and Snow F... | 9 |
Bifurcation Analysis for Dust-Acoustic W... | 8 |
2019-2021年文章被引用数据
被引用期刊名称 | 数量 |
IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
PHYS PLASMAS | 585 |
J PHYS D APPL PHYS | 364 |
PLASMA SOURCES SCI T | 296 |
J APPL PHYS | 236 |
AIP ADV | 211 |
FUSION ENG DES | 209 |
IEEE ACCESS | 201 |
IEEE T ELECTRON DEV | 180 |
PLASMA SCI TECHNOL | 172 |
2019-2021年引用数据
引用期刊名称 | 数量 |
IEEE T PLASMA SCI | 2237 |
PHYS PLASMAS | 882 |
J PHYS D APPL PHYS | 759 |
IEEE T MAGN | 593 |
J APPL PHYS | 583 |
PLASMA SOURCES SCI T | 427 |
APPL PHYS LETT | 341 |
PHYS REV LETT | 300 |
REV SCI INSTRUM | 278 |
IEEE T DIELECT EL IN | 268 |
中科院分区:1区
影响因子:7.7
审稿周期:约Time to first decision: 9 days; Review time: 64 days; Submission to acceptance: 82 days; 约2.7个月 约7.8周
中科院分区:1区
影响因子:8.1
审稿周期:约Time to first decision: 6 days; Review time: 44 days; Submission to acceptance: 54 days; 约4.1个月 约6.8周
中科院分区:3区
影响因子:3.3
审稿周期:约17.72天 11 Weeks
中科院分区:2区
影响因子:5.8
审稿周期: 约2.4个月 约7.6周
中科院分区:2区
影响因子:5.1
审稿周期: 约1.9个月 约2.7周
中科院分区:1区
影响因子:98.4
审稿周期: 约3月
若用户需要出版服务,请联系出版商:IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。