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Journal Of Semiconductor Technology And Science

评价信息:

影响因子:0.5

年发文量:37

半导体技术与科学杂志 SCIE

Journal Of Semiconductor Technology And Science

《半导体技术与科学杂志》(Journal Of Semiconductor Technology And Science)是一本以ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-PHYSICS, APPLIED综合研究为特色的国际期刊。该刊由Institute of Electronics Engineers of Korea出版商创刊于2001年,刊期6 issues/year。该刊已被国际重要权威数据库SCIE收录。期刊聚焦ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-PHYSICS, APPLIED领域的重点研究和前沿进展,及时刊载和报道该领域的研究成果,致力于成为该领域同行进行快速学术交流的信息窗口与平台。该刊2023年影响因子为0.5。CiteScore指数值为0.9。

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期刊简介预计审稿时间: 较慢,6-12周

Journal of Semiconductor Technology and Science is published to provide a forum for R&D people involved in every aspect of the integrated circuit technology, i.e., VLSI fabrication process technology, VLSI device technology, VLSI circuit design and other novel applications of this mass production technology. When IC was invented, these people worked together in one place. However, as the field of IC expanded, our individual knowledge became narrower, creating different branches in the technical society, which has made it more difficult to communicate as a whole. The fisherman, however, always knows that he can capture more fish at the border where warm and cold-water meet. Thus, we decided to go backwards gathering people involved in all VLSI technology in one place.

《半导体技术与科学杂志》的出版旨在为参与集成电路技术各个方面的研发人员提供一个论坛,即 VLSI 制造工艺技术、VLSI 设备技术、VLSI 电路设计以及这种大规模生产技术的其他新应用。当 IC 被发明时,这些人在一个地方一起工作。然而,随着 IC 领域的扩大,我们的个人知识变得越来越狭窄,在技术社会中产生了不同的分支,这使得整体交流变得更加困难。然而,渔夫总是知道他可以在暖水和冷水交汇的边界捕获更多的鱼。因此,我们决定倒退,将所有参与 VLSI 技术的人员聚集在一个地方。

《Journal Of Semiconductor Technology And Science》(半导体技术与科学杂志)编辑部通讯方式为RM #907 SCIENCE & TECHNOLOGY NEW BLDG, 635-4 YUCKSAM-DONG, SEOUL, SOUTH KOREA, KANGNAM-KU, 135-703。如果您需要协助投稿或润稿服务,您可以咨询我们的客服老师。我们专注于期刊投稿服务十年,熟悉发表政策,可为您提供一对一投稿指导,避免您在投稿时频繁碰壁,节省您的宝贵时间,有效提升发表机率,确保SCI检索(检索不了全额退款)。我们视信誉为生命,多方面确保文章安全保密,在任何情况下都不会泄露您的个人信息或稿件内容。

中科院分区

2023年12月升级版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 4区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 4区 4区

2022年12月升级版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 4区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 4区 4区

2021年12月旧的升级版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 4区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 4区 4区

2021年12月基础版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 4区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 4区 4区

2021年12月升级版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 4区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 4区 4区

2020年12月旧的升级版

大类学科 分区 小类学科 分区 Top期刊 综述期刊
工程技术 4区 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:电子与电气 PHYSICS, APPLIED 物理:应用 4区 4区
名词解释:

基础版:即2019年12月17日,正式发布的《2019年中国科学院文献情报中心期刊分区表》;将JCR中所有期刊分为13个大类,期刊范围只有SCI期刊。

升级版:即2020年1月13日,正式发布的《2019年中国科学院文献情报中心期刊分区表升级版(试行)》,升级版采用了改进后的指标方法体系对基础版的延续和改进,影响因子不再是分区的唯一或者决定性因素,也没有了分区的IF阈值期刊由基础版的13个学科扩展至18个,科研评价将更加明确。期刊范围有SCI期刊、SSCI期刊。从2022年开始,分区表将只发布升级版结果,不再有基础版和升级版之分,基础版和升级版(试行)将过渡共存三年时间。

JCR分区(2023-2024年最新版)

JCR分区等级:Q4

按JIF指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 329 / 352

6.7%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 175 / 179

2.5%

按JCI指标学科分区 收录子集 分区 排名 百分位
学科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q4 342 / 354

3.53%

学科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q4 176 / 179

1.96%

Gold OA文章占比 研究类文章占比 文章自引率
0.00% 97.30% --
开源占比 出版国人文章占比 OA被引用占比
-- 0.05 --

名词解释:JCR分区在学术期刊评价、科研成果展示、科研方向引导以及学术交流与合作等方面都具有重要的价值。通过对期刊影响因子的精确计算和细致划分,JCR分区能够清晰地反映出不同期刊在同一学科领域内的相对位置,从而帮助科研人员准确识别出高质量的学术期刊。

CiteScore 指数(2024年最新版)

CiteScore SJR SNIP CiteScore 指数
0.9 0.181 0.216
学科类别 分区 排名 百分位
大类:Engineering 小类:Electrical and Electronic Engineering Q4 654 / 797

18%

大类:Engineering 小类:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q4 248 / 284

12%

名词解释:CiteScore是基于Scopus数据库的全新期刊评价体系。CiteScore 2021 的计算方式是期刊最近4年(含计算年度)的被引次数除以该期刊近四年发表的文献数。CiteScore基于全球最广泛的摘要和引文数据库Scopus,适用于所有连续出版物,而不仅仅是期刊。目前CiteScore 收录了超过 26000 种期刊,比获得影响因子的期刊多13000种。被各界人士认为是影响因子最有力的竞争对手。

数据趋势图

历年中科院分区趋势图

历年IF值(影响因子)

历年引文指标和发文量

历年自引数据

发文数据

2019-2021年国家/地区发文量统计

国家/地区 数量
South Korea 220
CHINA MAINLAND 14
USA 8
India 5
Japan 3
Taiwan 3
Vietnam 3
England 1
Indonesia 1
Iran 1

2019-2021年机构发文量统计

机构 数量
HANYANG UNIVERSITY 24
HONGIK UNIVERSITY 21
SEOUL NATIONAL UNIVERSITY (SNU) 17
KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE & TE... 15
CHUNGNAM NATIONAL UNIVERSITY 14
KWANGWOON UNIVERSITY 14
SAMSUNG 14
EWHA WOMANS UNIVERSITY 12
SUNGKYUNKWAN UNIVERSITY (SKKU) 12
SOGANG UNIVERSITY 10

2019-2021年文章引用数据

文章引用名称 引用次数
A 4-Channel 8-Gb/s/ch VCSEL Driver Array 4
A Watt-level Broadband Power Amplifier i... 4
A 3-Gb/s Equalizer with an Adaptive Swin... 4
Gallium Nitride PIN Avalanche Photodiode... 3
Processing and Characterization of Ultra... 3
Investigation on Phase-change Synapse De... 3
Properties of Resistive Switching in TiO... 3
Xenon Flash Lamp Annealing on a-IGZO Thi... 3
Recessed AlGaN/GaN UV Phototransistor 2
Investigation of Wafer Warpage Induced b... 2

2019-2021年文章被引用数据

被引用期刊名称 数量
J SEMICOND TECH SCI 26
J NANOSCI NANOTECHNO 24
MICROMACHINES-BASEL 17
IEEE ACCESS 13
ELECTRONICS-SWITZ 8
IEEE ELECTR DEVICE L 8
MATER RES EXPRESS 7
IEEE J ELECTRON DEVI 6
IEEE T ELECTRON DEV 6
JPN J APPL PHYS 6

2019-2021年引用数据

引用期刊名称 数量
IEEE J SOLID-ST CIRC 114
IEEE T ELECTRON DEV 63
IEEE ELECTR DEVICE L 45
IEEE T CIRCUITS-I 45
APPL PHYS LETT 43
PHYS REV B 33
J APPL PHYS 30
IEEE T CIRCUITS-II 29
J SEMICOND TECH SCI 26
IEEE T VLSI SYST 16

相关期刊

免责声明

若用户需要出版服务,请联系出版商:RM #907 SCIENCE & TECHNOLOGY NEW BLDG, 635-4 YUCKSAM-DONG, SEOUL, SOUTH KOREA, KANGNAM-KU, 135-703。