高级材料接口 SCIE

期刊简介预计审稿时间： 10 Weeks

Advanced Materials Interfaces publishes top-level research on interface technologies and effects. Considering any interface formed between solids, liquids, and gases, the journal ensures an interdisciplinary blend of physics, chemistry, materials science, and life sciences. Advanced Materials Interfaces was launched in 2014 and received an Impact Factor of 4.834 in 2018.

The scope of Advanced Materials Interfaces is dedicated to interfaces and surfaces that play an essential role in virtually all materials and devices. Physics, chemistry, materials science and life sciences blend to encourage new, cross-pollinating ideas, which will drive forward our understanding of the processes at the interface.

Advanced Materials Interfaces covers all topics in interface-related research:

Oil / water separation,

Applications of nanostructured materials,

2D materials and heterostructures,

Surfaces and interfaces in organic electronic devices,

Catalysis and membranes,

Self-assembly and nanopatterned surfaces,

Composite and coating materials,

Biointerfaces for technical and medical applications.

Advanced Materials Interfaces provides a forum for topics on surface and interface science with a wide choice of formats: Reviews, Full Papers, and Communications, as well as Progress Reports and Research News.

《Advanced Materials Interfaces》发表有关界面技术和效果的顶级研究。考虑到固体、液体和气体之间形成的任何界面，该期刊确保了物理学、化学、材料科学和生命科学的跨学科融合。《Advanced Materials Interfaces》于 2014 年推出，2018 年的影响因子为 4.834。

《Advanced Materials Interfaces》的范围致力于在几乎所有材料和设备中发挥重要作用的界面和表面。物理学、化学、材料科学和生命科学相互融合，鼓励新的交叉融合思想，这将推动我们对界面过程的理解。

《先进材料界面》涵盖了界面相关研究的所有主题：

油/水分离，

纳米结构材料的应用，

二维材料和异质结构，

有机电子设备中的表面和界面，

催化和膜，

自组装和纳米图案表面，

复合材料和涂层材料，

用于技术和医疗应用的生物界面。

《先进材料界面》为表面和界面科学主题提供了一个论坛，提供多种格式选择：评论、全文和通讯，以及进度报告和研究新闻。

《Advanced Materials Interfaces》(高级材料接口)编辑部通讯方式为111 RIVER ST, HOBOKEN, USA, NJ, 07030-5774。如果您需要协助投稿或润稿服务，您可以咨询我们的客服老师。我们专注于期刊投稿服务十年，熟悉发表政策，可为您提供一对一投稿指导，避免您在投稿时频繁碰壁，节省您的宝贵时间，有效提升发表机率，确保SCI检索（检索不了全额退款）。我们视信誉为生命，多方面确保文章安全保密，在任何情况下都不会泄露您的个人信息或稿件内容。